氮氣烤箱，充氮潔凈烤箱概述：

  充氮潔凈烤箱在工作時，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……

氮氣烤箱，充氮潔凈烤箱技術參數(shù)

1.名稱及型號：氮氣烤箱

2.氮氣烤箱主要技術指標：

2.1含氧量：<500/100/50ppm;

2.2溫度范圍：RT（室溫）+10～200/300℃；

2.3溫度均勻度：±1℃;（空載）

2.4溫度波動度：±0.5℃（空載）

2.5溫控精度：0.1℃;

2.6烘箱擱板為活動形式。

2.7工作尺寸：自定義

2.8烤箱裝有進氮氣孔,配有玻璃流量轉(zhuǎn)子器

結構：

烤箱由箱體部分、電器控制柜部分、電加熱及風道系統(tǒng)部分組裝而成，結構合理，外觀美觀大方；

無塵無氧烤箱，PI無塵固化烤箱

無塵無氧烤箱，PI無塵固化烤箱概述

  應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).

二．無塵無氧烤箱，PI無塵固化烤箱技術參數(shù)

1.主要技術指標

Ø 材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼，內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼

Ø 溫度范圍：RT+10-200、400℃

Ø 溫度分辨率：0.1℃

Ø 溫度波動度：＜±1℃

Ø 溫度均勻度：≤±2%

Ø 潔凈度：class 100，設備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境

Ø 氧含量

高溫狀態(tài)氧含量：≤ 20ppm +氣源氧含量

低溫狀態(tài)氧含量：≤ 50ppm +氣源氧含量

Ø 數(shù)據(jù)輸出：溫度和氧含量無紙記錄儀

2.系統(tǒng)結構

Ø 熱風循環(huán)系統(tǒng)：采用覆套式電熱器）無塵無氧化電熱發(fā)生器

Ø 氣體系統(tǒng)：HEPA過濾效果可達99.99%,Class100箱體內(nèi)裝有氧含量分析儀

Ø 水冷系統(tǒng)：翅片式水冷散熱器，冷卻水通過散熱器快速帶走更多的熱量，使得箱內(nèi)溫度快速下降

Ø 溫控系統(tǒng)：采用中能溫度控制器，內(nèi)置斜率設定、PID自整定

Ø 軟件系統(tǒng)：控制系統(tǒng)采用高速型邏輯控制器，可與現(xiàn)場總線聯(lián)機遠程操控

3. 安全保護性能

1）短路保護

 2）漏電保護

 3）超溫保護，獨立感溫式超溫保護器

 4）電機保護，電機過電流、水冷保護

 5）電磁門禁保護，當溫度超過100℃，電子鎖自動鎖緊，防止高溫開門