圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備工藝原理：

    光刻圖形反轉(zhuǎn)是一種特殊的工藝，用于制作?半導體器件。在曝光結(jié)束后，光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的，即曝光區(qū)域在顯影后會形成孔洞而不是島區(qū)。這種工藝主要用于制作孔洞結(jié)構(gòu)，通過改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對分解率來實現(xiàn)。

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的應用：

    光刻圖形反轉(zhuǎn)工藝主要用于剝離過程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的性能：